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Applicazione dell'alimentazione ad alta tensione nel fascio ionico

Fascio ionico

Un fascio ionico è un fascio prodotto accelerando gli ioni ad alta velocità. Gli ioni hanno carica positiva o negativa

atomi o gruppi di atomi. L'accelerazione ionica è il movimento degli ioni verso la loro destinazione applicando un arbitrario

voltaggio. La quantità di moto dell'acceleratore è proporzionale alla tensione applicata. Secondo l'applicazione del

trasferimento di ioni, gli elettrodi che applicano la tensione sono elettrodo di accelerazione, elettrodo di estrazione, soppressione

elettrodo, elettrodo di deflessione, elettrodo di deflessione, ecc. Sono utilizzati nei motori ionici, nello sputtering del fascio ionico,

impianto, fascio ionico focalizzato (FIB) e acceleratori. Per evitare che il potenziale all'interno del dispositivo

essendo sbilanciato verso il potenziale ionico accelerato, in alcuni casi è possibile che venga neutralizzato elettricamente

accelerando gli ioni per produrre ioni.

 

Per generare un fascio ionico per il FIB, una sorgente ionica di metallo liquido (LMIS) costituita da fili di tungsteno aghiformi

viene utilizzato collegato al gallio. Quando il filamento viene riscaldato e viene applicata una tensione all'elettrodo di estrazione,

un fascio ionico viene generato dalla punta. Gli ioni risultanti vengono quindi controllati dai campi elettrici e magnetici

dell'acceleratore, formando uno stretto flusso direzionale. Il controllo del fascio ionico viene utilizzato per la scansione del fascio ionico. Gli ioni

estratti dalla sorgente ionica vengono focalizzati da una lente condensatrice (CL) e il fascio ionico viene scansionato da una lente elettrostatica

deflettore. I fasci ionici vengono utilizzati in un'ampia gamma di applicazioni, come l'iniezione di fasci ionici, l'elaborazione di fasci ionici,

e microscopia ionica a scansione (SIM).

 

Un generatore di fasci ionici è costituito da una sorgente ionica (cannone ionico), una lente elettromagnetica in un acceleratore e a

deflettore. I fasci ionici vengono fatti passare attraverso acceleratori per l'iniezione di ioni impurità nei semiconduttori,

pulizia della superficie mediante fresatura ionica, trattamento superficiale, modificazione superficiale e analisi superficiale e interna.

Il fascio ionico viene accelerato e decelerato nel vuoto da un campo elettrico e deviato da un campo magnetico.

La separazione della massa ionica viene effettuata piegando gli ioni in un campo magnetico e l'analisi energetica viene eseguita da

metodo del campo elettrico decelerante e analisi della deflessione del campo elettrico statico.

ion_beam.png

 

Wisman offre una vasta gamma di dispositivi di potenza per l'accelerazione, l'estrazione, la soppressione, la deflessione, la focalizzazione degli ioni

meshing e neutralizzazione. Wisman gli alimentatori per deflettori elettrostatici sono disponibili in un'ampia gamma di

specifiche, in particolare offriamo amplificatori ad alta tensione con il più alto livello di velocità di risposta al mondo.

Con la funzione di polarizzazione DC, è possibile regolare facilmente il punto di riferimento della scansione.

 

Alimentazione del fascio ionico:

SEM, Orlo, EM

SEM.png

immagine.png

EM.png